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產品簡介：GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀，可進行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達50mm，鍍膜厚度可達300，特別適用于SEM樣品表面的鍍膜

產品簡介：GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據二極（DC）直流濺射原理設計而成的、可靠、經濟的鍍膜設備

產品簡介：VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

產品簡介：VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

產品簡介：鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發沉積室、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、樣品加熱控溫、電控系統、配氣系統等部分組成

產品簡介：VTC-200真空旋轉涂膜機具有操作簡單、清理方便，體積小巧等優點，主要應用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程