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  • 小型粉末PVD包覆系統(DC磁控濺射-振動樣品臺)VTC-16PW
    小型粉末PVD包覆系統(DC磁控濺射-振動樣品臺)VTC-16PW

    產品詳細介紹:小型粉末PVD包覆系統VTC-16PW是一款小型粉末包覆系統,主要有2英寸磁控濺射頭和振動樣品臺組成

    更新時間:2024-03-07型號:瀏覽量:605
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  • VTC-16-3HD 3靶等離子濺射儀
    VTC-16-3HD 3靶等離子濺射儀

    產品簡介:VTC-16-3HD3靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子薄膜濺射儀(直流普通型),控制面板采用觸摸屏模式,基片極限尺寸為2″,放置樣品的直徑為?50mm,加熱溫度達500℃

    更新時間:2024-03-07型號:瀏覽量:518
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  • GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀
    GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀

    產品簡介:GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀,可進行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜,樣品直徑可達50mm,鍍膜厚度可達300?,特別適用于SEM樣品表面的鍍膜

    更新時間:2024-03-07型號:瀏覽量:484
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  • GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發鍍膜儀
    GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發鍍膜儀

    產品簡介:GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發鍍膜儀可對程序進行設定,并精確控制溫度在200oC-1500oC(或者1200oC-~1700oC)的范圍內進行變化,可蒸鍍直徑長達2"的薄膜樣品,在對樣品進行蒸發鍍膜的過程中,樣品臺可進行旋轉,以獲得更均勻的薄膜

    更新時間:2024-03-07型號:瀏覽量:578
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  • GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀
    GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀

    產品簡介:GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據二極(DC)直流濺射原理(直流二極濺射鍍膜是指在真空環境中利用粒子轟擊靶材產生的濺射效應,使得靶材原子或分子從固體表面射出,在基片上沉積形成薄膜的過程

    更新時間:2024-03-07型號:瀏覽量:590
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  • GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸鍍儀
    GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸鍍儀

    產品簡介:GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸鍍儀特別適合對輕金屬如、Al、Mg、和Li等金屬的蒸鍍,這種鍍膜的方法主要是在真空條件下,加熱蒸發鎢絲舟中待蒸發的材料,使其原子或分子從表面氣化逸出,形成蒸汽流,入射到襯底或基底表面,從而凝結成固態薄膜的方法

    更新時間:2024-03-07型號:瀏覽量:523
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